北京七星华创电子股份有限公司(简称“七星华创”)坐落于中关村高科技产业开发区的“电子城科技园”，是一家以微电子技术为核心，以电子专用设备与新型电子元器件为主营业务，集研发、生产、销售、服务及对外投资于一体的大型综合性高科技公司。七星华创是中国电子专用设备工业协会理事长及中国电子元件协会的副理事长单位，旗下设有七个分公司和四家控股子公司。七星华创是于2001年9月28日以发起设立方式成立的现代企业制度的股份制公司。

公司第一大股东——北京七星华电科技集团有限责任公司，是在原七OO厂(北京建中机器厂)、七O六厂、七O七厂、七一八厂、七九七厂、七九八厂六家创建于“一五”期间的国家重点骨干电子企业的基础上，重组、改制而成的高科技企业集团。

七星华创一直以微电子设备作为企业的主导产品，多年来，连续承接了“六五”、“七五”、“八五”、“九五”国家集成电路设备重点科技攻关项目，不断紧跟国际集成电路设备发展潮流，同时与国际大公司也进行了广泛的合作与技术交流。早在1984年就与美国AM公司合作，建立了AM公司中国服务中心；与美国BTU公司合作制造扩散设备；与韩国A Tech公司共同开发溅射及蒸镀设备。经过多年的努力，逐步形成公司目前微电子设备的五大系列产品。

集成电路生产中扩散/氧化设备仍然是栅氧化和阱推进的主要设备，在电力半导体生产中还发挥着杂质扩散作用。七星华创是我国扩散氧化设备的最大制造商，目前6英寸设备已成功装备多条生产线。即将推出的8英寸立式扩散/氧化系统更具有优良的性价比。

干法刻蚀设备是集成电路三维结构的主要形成设备。七星华创的刻蚀设备多年来一直在国内居领先地位。自主开发的cluster结构M-RIE金属刻蚀设备和Oxide刻蚀设备以其优良的性能受到用户信赖。

化学汽相淀积(CVD)设备是介质膜生长的主要工艺设备，近年来管式LPCVD设备已成功应用于MEMS工艺中，平板型PECVD设备成功应用于光电器件工艺中。其多室结构的6英寸平坦化IMD-CVD设备也即将交付生产线使用。

近年开发的具有多工艺程序运行、精确自动移载系统的全自动清洗/腐蚀设备，先后成功应用于杭州士兰6英寸生产线和西安电力电子6英寸生产线上。其系列化、模块化产品已广泛应用于抛光片、扩散前、光刻后等关键工艺，可去除有机物、颗粒、金属粒子、自然氧化层及清洗石英器皿。在光电子、半导体、微机械、材料等领域得到成功应用。正在研制的8英寸单片多工位全自动清洗腐蚀机，其自动配液、兆声清洗、腐蚀、干燥、盒到盒功能实现了在单一工位中进行多种化学药液的清洗，前景十分广阔。

七星华创质量流量计产品是国内气体质量流量控制器的著名品牌，从1979年开始研制成功国内第一台气体质量流量控制器以来，其D07系列MFM/MFC质量流量控制器及D08系列流量显示仪已发展成标准化、系列化、规模化产品，各项性能指标达到或接近国外同类产品水平，在微电子工艺、光电器件、真空镀膜、光纤熔炼、特种材料、石化冶金、医疗制气等多种领域得到广泛应用，产品已遍布全国，并远销南非、德国、东欧、新加坡。近年特别为半导体工艺开发的D07-16全金属密封型，其所有连接及密封处均使用不锈钢硬密封，能耐各种强腐蚀性气体；D07-18国际标准型，体积小、反应时间快，适合于半导体制造业各种普通型气体，已大量应用于无锡华晶、吉林彩晶、吉林华微等半导体生产企业；D07-50数字化型，具有RS485/RS232接口，稳定性好、精度高、能方便的与计算机及PLC进行联网和通讯。

七星华创参与筹建的北京北方微电子基地设备工艺研究中心正承担着国家“863”集成电路设备重大专项——等离子刻蚀机研制项目；七星华创研制的8英寸立式氧化扩散系统被信息产业部列入2001年度电子信息产业发展基金重点支持项目；研制的8英寸单片多工位清洗腐蚀机被信息产业部列入2002年度电子信息产业发展基金重点支持项目；研制的数字化流量计项目也被国家经济贸易委员会列入2002年国家重点技术创新计划产品。

七星华创一贯秉承“品质第一”的经营理念，具有美国RAB、荷兰RVA、日本JAB和英国UKAS四个国际认可机构徽标的ISO9001：2000质量管理体系认证、欧洲CE认证、美国UL认证和中华人民共和国军标质量体系认证。

七星华创以“让明天更美好”为企业憧憬；以“为信息产业发展提供原动力”为企业使命；相信七星华创会在全体员工的辛勤努力和大好机遇的历炼下，将自身的目标、使命和憧憬一一实现，成为中国电子信息产业的一颗耀眼的新星，在世界经济的大舞台上散发光芒！

主要产品

1. 氧化扩散系统
2. 干法刻蚀系统
3. 化学气相淀积系统
4. 全自动清洗系统
5. 磁控溅射系统
6. 四探针电阻率测试仪
7. 气体质量流量控制器